Ochrona własności intelektualnej 310-KS2-2OWI
Profil studiów - ogólnoakademicki
Forma studiów - stacjonarne
Rodzaj przedmiotu - obowiązkowy
Dziedzina i dyscyplina nauki - nauki społeczne i nauki prawne
Rok studiów/sem. - rok II, II stopień/sem. letni
Wymagania wstępne - brak.
Liczba godzin zajęć dydaktycznych z podziałem na formy prowadzenia zajęć – 15 godzin wykładu
Metody dydaktyczne - wykład konwersatoryjny, metoda heurystyczna, metoda problemowa, metoda pokazu (prezentacje), dyskusja
moderowana (w ramach konsultacji)
Punkty ECTS – 1
Bilans nakładu pracy studenta - udział w zajęciach 15 godz., przygotowanie do zajęć i egzaminu 5 godz., udział w konsultacjach
związanych z zajęciami 5 godz., Razem: 25 godz., co odpowiada 1 pkt ECTS.
Wskaźniki ilościowe - nakład pracy studenta związany z zajęciami wymagającymi bezpośredniego udziału nauczyciela 20 godzin, co
odpowiada 0,75 pkt ECTS, oraz nakład pracy studenta, który nie wymaga bezpośredniego udziału nauczyciela 5 godz., co odpowiada
0,25 pkt ECTS
Rodzaj przedmiotu
Tryb prowadzenia przedmiotu
Koordynatorzy przedmiotu
Efekty kształcenia
KP7_WK3, Wiedza, absolwent zna i rozumie: pojęcia i zasady z zakresu ochrony własności przemysłowej i prawa autorskiego; wymogi i procedury polskich oraz europejskich Urzędów Patentowych;
KP7_UU1Umiejętności, absolwent potrafi: samodzielnie planować i realizować własne uczenie się przez całe życie w celu podnoszenia własnych kompetencji.
KP7_KR3 Kompetencje społeczne, absolwent jest gotów do: rozwijania dorobku zawodowego i podtrzymywania etosu zawodu.
Weryfikacja ww. efektów uczenia się nastąpi w drodze zaliczenia.
Kryteria oceniania
Zaliczenie w formie testu składającego się z pytań zamkniętych - test jednokrotnego wyboru. W zależności od obowiązujących regulacji
prawnych zastrzega się możliwość przeprowadzenia zaliczenia przy użyciu środków komunikacji elektronicznej.
Literatura
Literatura podstawowa:
1. J. Sieńczyło-Chlabicz (red.), Prawo własności intelektualnej - Teoria i praktyka, wyd. 1, Warszawa: Wolters Kluwer 2021
2. J. Barta, R. Markiewicz, Prawo autorskie i prawa pokrewne, wyd. 9, Warszawa 2021
3. P. Kostański, Ł. Żelechowski, Prawo własności przemysłowej, wyd. 2, Warszawa 2020
4. E. Nowińska, U. Promińska, K. Szczepanowska-Kozłowska, Prawo własności przemysłowej, Warszawa 2021
Literatura uzupełniająca:
1. A. Michalak (red.), Ustawa o prawie autorskim i prawach pokrewnych. Komentarz, Warszawa 2019
2. R. Skubisz (red.), System Prawa Prywatnego. Prawo własności przemysłowej, tomy 14A, 14B, 14C, Warszawa 2017
|
W cyklu 2024:
Literatura podstawowa: |
W cyklu 2025:
Literatura podstawowa: |
W cyklu 2026:
Literatura podstawowa: |
Więcej informacji
Dodatkowe informacje (np. o kalendarzu rejestracji, prowadzących zajęcia, lokalizacji i terminach zajęć) mogą być dostępne w serwisie USOSweb: