Prawo autorskie i prawo własności przemysłowej 370-KN2-1PAW
Profil studiów - ogólnoakademicki.
Forma studiów - niestacjonarne.
Rodzaj przedmiotu - obowiązkowy.
Dziedzina i dyscyplina nauki - nauki społeczne i nauki prawne.
Rok studiów/sem. - rok I/sem. II.
Wymagania wstępne - brak.
Liczba godzin zajęć dydaktycznych z podziałem na formy prowadzenia zajęć – 16 godzin wykładu (w tym 6 godz. w formie synchronicznej i 2 godz. w formie asynchronicznej).
Metody dydaktyczne - wykład, ćwiczenia, konsultacje, e-learning.
Punkty ECTS – 4
Bilans nakładu pracy studenta - udział w zajęciach 16 godz. (w tym 6 godz. w formie synchronicznej i 2 godz. w formie asynchronicznej), przygotowanie do zajęć i zaliczenia 75 godz., udział w konsultacjach związanych z zajęciami 10 godz. Razem: 100 godzin, co odpowiada 4 pkt ECTS.
Wskaźniki ilościowe - nakład pracy studenta związany z zajęciami wymagającymi bezpośredniego udziału nauczyciela 25 godzin, co odpowiada 1 pkt ECTS oraz nakład pracy studenta, który nie wymaga bezpośredniego udziału nauczyciela 75 godz., co odpowiada 3 pkt ECTS.
Rodzaj przedmiotu
Tryb prowadzenia przedmiotu
Koordynatorzy przedmiotu
W cyklu 2024: | W cyklu 2022: | W cyklu 2023: |
Efekty kształcenia
WIEDZA, absolwent zna i rozumie:
- absolwent w pogłębionym stopniu zna zasady prawa autorskiego i
prawa własności przemysłowej KP7_WK5
UMIEJĘTNOŚCI, absolwent potrafi:
- przygotować opracowania pisemne lub prowadzić debatę na tematy prawne i kryminologiczne - KP7_UK3
- samodzielnie uzupełniać wiedzę i umiejętności w aspekcie interdyscyplinarnym - KP7_UU2
- samodzielnie planować i realizować własne uczenie się przez całe życie i ukierunkowywać innych w tym zakresie - KP7_UU1
Kryteria oceniania
Egzamin pisemny w formie pytań zamkniętych - test jednokrotnego wyboru. Skala ocen 2-5. W zależności od obowiązujących regulacji, zastrzega się możliwość przeprowadzenia zaliczenia w formie zdalnej.
Literatura
Literatura podstawowa:
1. J. Sieńczyło-Chlabicz (red.), Prawo własności intelektualnej - Teoria i praktyka, wyd. 1, Warszawa: Wolters Kluwer 2021
Literatura uzupełniająca:
1. J. Barta, R. Markiewicz, Prawo autorskie i prawa pokrewne, wyd. 9, Warszawa 2021
2. P. Kostański, Ł. Żelechowski, Prawo własności przemysłowej, wyd. 2, Warszawa 2020
3. E. Nowińska, U. Promińska, K. Szczepanowska-Kozłowska, Prawo własności przemysłowej, Warszawa 2021
4. Barta (red.), System Prawa Prywatnego, t. 13, Prawo autorskie, Warszawa 2017
Więcej informacji
Dodatkowe informacje (np. o kalendarzu rejestracji, prowadzących zajęcia, lokalizacji i terminach zajęć) mogą być dostępne w serwisie USOSweb: